l’institut de recherche Imec vient de franchir une étape majeure dans l’industrie des semi-conducteurs avec une nouvelle machine permetant de graver des puces aux dimensions inférieures à un nanomètre.
© Imec
À Louvain, l’institut de recherche Imec vient de franchir une étape majeure dans l’industrie des semi-conducteurs. Il a accueilli le premier module d’une nouvelle génération de machine de lithographie EUV à haute ouverture numérique, développée par le néerlandais ASML, considérée comme la plus avancée au monde.
Cet équipement de pointe doit permettre de graver des puces aux dimensions inférieures à un nanomètre, ouvrant la voie à l’« ère de l’ångström », une échelle encore plus fine. Plus les circuits sont petits, plus la puissance de calcul des puces augmente, un enjeu clé notamment pour le développement de l’intelligence artificielle.
Fruit d’une coopération étroite entre Imec et ASML, cette machine repose sur une technologie de lumière ultraviolette extrême permettant de produire des semi-conducteurs ultra-performants. Elle est capable de traiter des centaines de plaquettes de silicium par heure, chacune comprenant de nombreuses couches gravées avec une précision extrême.
D’un coût supérieur à 400 millions d’euros, cet outil sera installé dans une nouvelle salle blanche au sein d’un complexe de recherche financé à hauteur de 2,5 milliards d’euros, avec le soutien de l’Union européenne et des autorités flamandes. L’objectif est de renforcer la recherche et de contribuer à la relocalisation partielle de la chaîne de production de semi-conducteurs en Europe, aujourd’hui majoritairement concentrée en Asie.
Une belle avancée technologique sur le sol belge !
